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半自動單片兆聲清洗機(jī)主要用于6、8英寸晶圓或掩模版的清洗，用于去除晶圓或掩模版上的油脂、光刻膠、拋光液等物理殘留。

設(shè)備主要由刷洗工藝腔體、升降掃描擺臂模塊、刷洗擺臂模塊、供排液系統(tǒng)、排風(fēng)系統(tǒng)、中央控制系統(tǒng)等組成。刷洗工藝腔體具備Brush刷洗、高壓二流體清洗、兆聲清洗、藥液清洗、氮?dú)獯蹈?、離心甩干等功能。

產(chǎn)品優(yōu)勢：

1. 兼容多種規(guī)格尺寸

2. 配置可根據(jù)客戶需求定制 

3. 低藥液消耗

4. 支持多種藥液分層排放

5. 高效的顆粒去除率，particle≤30ea @0.2μm